参展中可能会涉及到的知识产权纠纷，大多在专利与商标两方面，它们二者共同的特点是专有性，无论专利或商标，经法定程序获得后，即受法律保护，所有权人享有排他的权利任何人不得为生产经营目的擅自使用。留给即将参展的公司们。